【納米顆粒制備技術(shù)】干法氣溶膠納米打印技術(shù)，加速材料研發(fā)進(jìn)程

增材制造的方法，如納米打印可以大大簡(jiǎn)化高比表面積的納米多孔薄膜的制備工藝。這種薄膜材料的應(yīng)用很多，包括電催化、化學(xué)、光學(xué)或生物傳感以及電池和微電子產(chǎn)品制造等。

因此，一種基于氣溶膠的直寫(xiě)方法能夠?qū)崿F(xiàn)無(wú)機(jī)納米結(jié)構(gòu)材料的打印直寫(xiě)。

印刷涂層的顆粒由 納米粒子發(fā)生器產(chǎn)生，經(jīng)火花燒蝕產(chǎn)生的氣溶膠顆粒其典型粒徑在 20nm 以下，且不含表面活性劑或任何其他有機(jī)添加物質(zhì)。納米粒子生產(chǎn)和印刷沉積的整個(gè)過(guò)程是自動(dòng)化的，不需要進(jìn)行后續(xù)有機(jī)成分的熱處理去除。

 納米印刷沉積系統(tǒng)

工作原理

VSP-G1 納米粒子發(fā)生器 (VSP-G1) 作為納米粒子的生產(chǎn)源，集成在 VSP-P1 系統(tǒng)中。而用于納米顆粒生產(chǎn)的技術(shù)稱為火花燒蝕（Spark Ablation），在室溫溫度和大氣壓條件下便可實(shí)現(xiàn)多種納米粒子的制備。

在氣流中產(chǎn)生納米氣溶膠后，這些顆粒經(jīng)低真空環(huán)境下的噴嘴加速并通過(guò)撞擊沉積的方式沉積在多種類型的基材上。沉積的驅(qū)動(dòng)力是沉積室和 VSP-G1 系統(tǒng)（噴嘴上游）之間的壓力差。通過(guò) XYZ 載物臺(tái)控制、顯微鏡攝像頭模塊和直觀的用戶界面可以打印沉積特定的路徑，從而可以控制實(shí)驗(yàn)參數(shù)，進(jìn)行由納米粒子組成的圖案繪制。