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      ALD 包覆改性方案

      ALD 包覆改性方案

      簡要描述:PANDORA 是高度集成的臺式原子層沉積系統(tǒng),可擺放在實驗室的任意角落,采用旋轉(zhuǎn)式反應(yīng)腔實現(xiàn)對粉末材料的分散,有更高的兼容性。對于平面樣品,則可快速插入平面反應(yīng)臺,實現(xiàn)樣品的切換。PANDORA 高度集成的特點提高了使用效率,使用者甚至在安裝的第一天便可以開始 ALD 實驗。【ALD 包覆改性方案】

      產(chǎn)品型號: PANDORA

      所屬分類:ALD包覆改性方案

      更新時間:2025-12-30

      廠商性質(zhì):其他

      詳情介紹
      品牌其他品牌產(chǎn)地進(jìn)口
      產(chǎn)品新舊全新

      PANDORA 多功能臺式原子層沉積系統(tǒng)【ALD 包覆改性方案

       

      forge-pandora.jpeg

      很多人相信,潘多拉的魔盒還埋藏著尚未開發(fā)的寶物——希望!

       

      正是基于對于新技術(shù)應(yīng)用的美好愿景,F(xiàn)orge Nano 開發(fā)了 PANDORA 臺式原子層沉積系統(tǒng), 這一工具巧妙地將粉末原子層沉積技術(shù)和平面原子層沉積薄膜技術(shù)結(jié)合。使用者可輕易地在粉末與平面樣品之間切換,而不用擔(dān)心影響研究效率。

       

       

      產(chǎn)品規(guī)格【ALD 包覆改性方案

      1. 前驅(qū)體通道:2-6

      2. 連續(xù)流 / 靜態(tài)流兼容

      3. 反應(yīng)腔:100ml 粉末腔 / 10×10cm 平面

      4. 反應(yīng)腔結(jié)構(gòu):旋轉(zhuǎn)式

      5. 反應(yīng)腔溫度:最高 200℃

      6. 配件:In-situ QCM,等離子發(fā)生器,臭氧發(fā)生器,在線式氣體分析系統(tǒng),沖壓輔助裝置

      7. 支持樣品:粉末,纖維,平面樣,器件,藥物

       

      產(chǎn)品特點

      PANDORA 是高度集成的臺式原子層沉積系統(tǒng),可擺放在實驗室的任意角落,采用旋轉(zhuǎn)式反應(yīng)腔實現(xiàn)對粉末材料的分散,有更高的兼容性。對于平面樣品,則可快速插入平面反應(yīng)臺,實現(xiàn)樣品的切換。PANDORA 高度集成的特點提高了使用效率,使用者甚至在安裝的第一天便可以開始 ALD 實驗。

       

      實時監(jiān)測

      PANDORA 也配備了在線分析系統(tǒng),可以對前驅(qū)體與副產(chǎn)物進(jìn)行實時監(jiān)測,從而進(jìn)行沉積工藝改良。

       

      In-situ QCM

      ALD 是微量的沉積方式,故常規(guī)手段無法測量薄膜的質(zhì)量,因此 PANDORA 采用石英微天平可以實時監(jiān)測材料的質(zhì)量變化,幫助研究者獲得更高質(zhì)量的薄膜。

       

      反應(yīng)觀察窗

      研究者可通過窗口實時觀察粉末在腔室中的運轉(zhuǎn)情況

       

      符合 cGMP 要求

      PANDORA 可以應(yīng)用于藥物的表面改性及包覆,從而提升藥物的物理及化學(xué)性能。


      應(yīng)用

      對于學(xué)術(shù)研究,液相法是進(jìn)行粉末表面包覆改性的重要方法,但對于大多數(shù)研究者而言,尋找合適的工藝以及普適性較高的方案是費時耗力的工作,且液相法會造成大量的原料浪費,同時并不能實現(xiàn)*均勻的包覆。包覆層會出現(xiàn)較多的缺陷或顆粒團(tuán)聚,影響材料最終的性能。而對于敏感性較高的材料,如鋰電電極粉末,液相法可能對材料性能產(chǎn)生不可逆的影響。

       

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      ALD 是自限制性的薄膜沉積技術(shù),可以在粉末材料表面形成均勻的包覆,即便是孔隙率高的多孔結(jié)構(gòu),ALD 也有較好的均一性。

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